擇良辰選吉日，2024年5月20日上午10點(diǎn)16分，天仁微納納米壓印中試平臺(tái)一期（NTS?Center?-?Nanoimprint?Total?Solution?Center）百級(jí)超凈間啟用儀式圓滿舉行！納米壓印中試平臺(tái)（一期）超凈間面積約1600平，包括百級(jí)、千級(jí)和萬級(jí)等級(jí)，設(shè)備近百臺(tái)，總投資數(shù)億元。設(shè)備包含30多臺(tái)天仁微納自產(chǎn)各種型號(hào)的納米壓印設(shè)備，壓印種類從熱壓印、transfer?Printing到紫外壓印，壓印方式從輥壓到面壓到SR步進(jìn)式壓印，基材尺寸包含wafer?pieces到2/3/4/6/8/12寸，面板級(jí)G2和G5尺寸，設(shè)備類型包含手動(dòng)上下片、cassette?to?cassette自動(dòng)上下料設(shè)備，以及包含從晶圓清洗、plasma處理、涂膠、熱處理、自動(dòng)復(fù)制工作模具、自動(dòng)對(duì)位、壓印、固化、脫模等全工序流程的納米壓印cluster生產(chǎn)線設(shè)備（3臺(tái)）；
除此之外，各種壓印工藝配套、表征設(shè)備齊全，包括晶圓全自動(dòng)RCA、有機(jī)清洗、Plasma、HMDS、模具抗粘處理等預(yù)處理設(shè)備，各種涂膠設(shè)備spin-coating半自動(dòng)設(shè)備8臺(tái)，全自動(dòng)3臺(tái)，ink?jet?printing，slot?die?coating，slit?coating、微透鏡自動(dòng)點(diǎn)膠等設(shè)備；納米壓印模具制造設(shè)備包含電子束光刻、激光直寫、mask?aligner、激光干涉曝光、ICP、RIBE、去膠機(jī)、ALD、電鑄翻模、晶圓鍵合等；表征設(shè)備包括SEM、AFM、共聚焦、FIB、橢偏儀、膜厚儀、臺(tái)階儀、水滴角測(cè)試儀等；
天仁微納NTS?Center應(yīng)該是目前全球范圍內(nèi)納米壓印細(xì)分領(lǐng)域設(shè)備和配套工藝設(shè)備最全的中試平臺(tái)，天仁微納在該平臺(tái)配備超過50位資深工藝工程師為客戶提供技術(shù)支持、材料knowhow以及項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn)，該中試平臺(tái)的目標(biāo)是讓客戶以極低的成本將使用納米壓印相關(guān)技術(shù)的創(chuàng)新產(chǎn)品想法在該平臺(tái)得以實(shí)現(xiàn)，從prototype到產(chǎn)品中試，驗(yàn)證天仁微納納米壓印設(shè)備性能，為客戶未來的產(chǎn)品量產(chǎn)打通最后一公里。